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      為什么需要進行真空鍍膜呢?

      返回列表 來源: 發布日期:2022-06-27

      真空鍍膜是真空應用領域的一個突破性技術,利用物理或者化學方法并吸收一系列新技術而成的工藝,目的就是為了在實際生產中為產品創造薄膜保護層。工藝主要分為真空蒸鍍、磁控濺射鍍膜、離子鍍三種。

        工藝已經成為了電子元器件制造中的一項不可或缺的技術,主要是為了使產品表面具有耐磨損耐高溫,耐腐蝕等優于產品本身的性能,從而提高產品的質量,延長加工產品的使用壽命,不僅如此,還可以節約能源,獲得更為顯著的技術經濟效益。

        實際應用中,我們往往會根據產品的性質來決定選用哪種真空鍍膜工藝。磁控濺射鍍主要用于金屬產品,蒸發鍍主要用于塑膠產品,光學離子鍍主要用于璃玻產品。

        標簽:真空鍍膜


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